Atomic Layer Deposition for Semiconductors
4500 Kč
Odesíláme do 1 až 2 týdnů
Sleva až 70% u třetiny knih
This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.
| Nakladatel: | Springer-Verlag New York Inc. |
| ISBN: | 9781489979438 |
| Rok vydání: | 2016 |
| Jazyk : | Angličtina |
| Vazba: | Paperback / softback |
| Počet stran: | 263 |
Mohlo by se vám také líbit..
-
Pro příštích sedm generací
Carol Schaefer
-
LEGO®-EV3-Roboter
Valk, Laurens
-
Beginning LEGO MINDSTORMS EV3
Rollins, Mark
-
iPhone 5s und 5c
Damaschke, Giesbert
-
Rechnerarchitektur
Tanenbaum, Andrew S.
-
Raspberry Pi für Dummies
McManus, Sean
-
Topinkovač SENCOR STS 6056GD
-
The Game Console 2.0
Amos, Evan
-
Mi Smart Standing Fan 1C
-
Topinkovač CATLER TS 4013
-
Sencor SSJ 4050NP šnekový odšťavňovač
-
Zvhčovač vzduchu SENCOR SHF 901WH
-
Medical Informatics
-
Sheaves in Geometry and Logic
MacLane, Saunders; Birkhoff, Garrett
-
An Introduction to Homological Algebra
Rotman, Joseph J.
-
Mathematics and Its History
Stillwell, John
